【导语】据《韩国经济日报》今日消息，三星电子拟投入约(yuē)1.1万(wàn)亿(yì)韩(hán)元（约合54.92亿元人民币）引入两台最新High-NA双级极紫外光刻机，其中年内一台、明年上半年一台，用于产品量产。该设备为Twin Scan EXE:5200B，可大幅提升生产效率，助力降低工艺复杂性、提高晶(jīng)圆(yuán)产(chǎn)量(liàng)。
《韩(hán)国(guó)经(jīng)济(jì)日(rì)报(bào)》今(jīn)日(rì)报(bào)道(dào)称(chēng)，三(sān)星(xīng)电(diàn)子(zi)计(jì)划(huà)投(tóu)入(rù)约(yuē) 1.1 万(wàn)亿(yì)韩(hán)元(yuán)（IT之(zhī)家(jiā)注(zhù)：现(xiàn)汇(huì)率(lǜ)约(yuē)合(hé) 54.92 亿(yì)元(yuán)人(rén)民(mín)币(bì)）引(yǐn)进(jìn)两(liǎng)台(tái)最(zuì)新(xīn)的(de) High-NA 双(shuāng)级(jí)极(jí)紫外（EUV）光刻机。
据业内人士透露，三星电子此前仅在京畿道园区引进过一台用于研发的 High-NA EUV 设备，此次引进的机器将用于“产品量产”，尚属首次。三星电子计划在年内引进一台，并在明年上半年再引进一台。
Twin Scan EXE:5200B 是第二款 0.55 数值孔径（NA）或“High-NA”极紫外光刻系统，也是 TWINSCAN EXE:5000 的升级版，在提升对准精度的同时显著提高了生产效率，被视为生产下一代半导体芯片和高性能 DRAM 的必备设备。
相较于 NXE 系统，EXE:5200B 成像对比度提升 40%，分辨率达 8nm，使芯片制造商能够通过单次曝光实现比 TWINSCAN NXE 系统精细 1.7 倍的电路刻蚀，从而将晶体管密度提升至原来的 2.9 倍。这有助于降低大规模生产中的工艺复杂性，提高客户晶圆厂的晶圆产量。
